EUV-литография становится все более реальной

Февраль 29, 2008 at 8:40 am · Рубрики: Hardware

Ожидается, что Canon, также, представит участникам конференции свой новый 193-нм иммерсионный сканер FPA-7000AS7 для производства 32-нм микросхем, планируемый к выпуску в течение текущего года.

источник

Комментирование закрыто.